鋁及鋁合金在大氣中雖能自然構(gòu)成一層氧化膜，但膜薄（40- 50A）而疏松多孔，為非晶態(tài)的、不平均也不連續(xù)的膜層，不能作為防護(hù)一裝飾性膜層．隨著鋁制品加工工業(yè)的不時(shí)開展，在工業(yè)上采用陽(yáng)極氧化或化學(xué)氧化的辦法，在鋁及鋁合金制件外表生成一層氧化膜，以到達(dá)防護(hù)一裝飾的目的。經(jīng)化學(xué)氧化杜理取得的氧化膜，厚度普通為0.3～4um，質(zhì)軟、耐磨和抗蝕性能均低于陽(yáng)極氧化膜．所以，除有用處外，很少單獨(dú)運(yùn)用．但它有較好的吸附才能，在其外表再涂漆，可進(jìn)步鋁制品的耐蝕性和裝飾性。

一、采用陽(yáng)極氧化

經(jīng)陽(yáng)極氧化處置取得的氧化膜，厚度普通在5-20v m，硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜厚度可達(dá)60- 2500m． 其具有較高的耐蝕性．這是由于陽(yáng)極氧化膜有較高的化學(xué)穩(wěn)定性．鋁和鋁合金耐腐蝕的特性區(qū)別：經(jīng)測(cè)試，純鋁的陽(yáng)極氧化膜比鋁合金的陽(yáng)極氧化膜耐蝕性好．這是由于合金成分夾雜或構(gòu)成金屬化合物不能被氧化或被溶解，而使氧化膜不連續(xù)或產(chǎn)生空隙，從而使氧化膜的耐蝕性大為降低．所以，普通經(jīng)陽(yáng)極氧化后所得的膜必需停止封鎖處置，才干進(jìn)步其耐蝕性能。所以鋁的經(jīng)陽(yáng)極氧化法處置后要比鋁合金的耐腐蝕性強(qiáng)。

1 鋁和鋁合金在自然環(huán)境中能生成一層極薄的氧化膜。

2 鋁比鋁合金的耐腐蝕性好。

3 鋁的純度越高耐腐蝕性能越高.

4 鋁合金種類繁多，不同鋁合金耐腐蝕性能差異很大，以鋁鎂合金防護(hù)性能最好，鋁銅合金及鑄鋁合金防腐性能較差。

5 經(jīng)過陽(yáng)極氧化或化學(xué)氧化的鋁及鋁合金，其防腐性能都會(huì)有較大進(jìn)步，但防護(hù)才能的比擬關(guān)系不改動(dòng)，即原來(lái)好的仍好，原來(lái)差的仍差。

二、電堆積

電堆積是金屬或合金從其化合物水溶液、非水溶液或熔鹽中電化學(xué)堆積的過程。是金屬電解冶煉、電解精煉、電鍍、電鑄過程的根底。這些過程在一定的電解質(zhì)和操作條件下停止，金屬電堆積的難易水平以及堆積物的形態(tài)與堆積金屬的性質(zhì)有關(guān)，也依賴于電解質(zhì)的組成、pH值、溫度、電流密度等要素。吳向清等應(yīng)用電化學(xué)辦法對(duì)ZL105鋁合金外表電堆積Ni2SiC復(fù)合鍍層的耐蝕性能停止了研討。結(jié)果標(biāo)明，Ni2SiC復(fù)合鍍層的外表形貌與純Ni鍍層截然不同，耐蝕性能優(yōu)于純Ni鍍層，經(jīng)過300℃×2h熱處置后，耐蝕性能進(jìn)一步得到進(jìn)步。

三、多弧離子鍍層

多弧離子鍍是真空室中，應(yīng)用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)局部離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反響物堆積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)分離起來(lái)，不只能明顯地改良了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)展了薄膜的應(yīng)用范圍。

其優(yōu)點(diǎn)是薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材等。離子鍍品種很多，蒸發(fā)遠(yuǎn)加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱等。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電停止堆積。簡(jiǎn)單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發(fā)源，經(jīng)過靶與陽(yáng)極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中構(gòu)成等離子體，對(duì)基體停止堆積。在ZL201鋁合金外表多弧離子鍍Ti-Cr-N涂層，并在Ti-Cr-N涂層上制備一層脂類薄膜[10]。結(jié)果標(biāo)明：Ti-Cr-N涂層中的Cr以固溶體的方式存在于TiN晶體中，沒有構(gòu)成單獨(dú)的CrN相；涂層能夠有效進(jìn)步ZL201鋁合金的抗鹽霧腐蝕的才能。

四、化學(xué)復(fù)合鍍層

在鍍覆溶液中參加非水溶性的固體微粒，使其與主體金屬共同堆積構(gòu)成鍍層的工藝稱之為復(fù)合鍍。若采用電鍍的工藝則稱之為復(fù)合電鍍；若采用化學(xué)鍍的工藝則稱之為復(fù)合化學(xué)鍍。所得鍍層稱為復(fù)合鍍層。準(zhǔn)繩上，凡可鍍覆的金屬均可作為主體金屬，但研討和應(yīng)用較多的是鎳、鉻、鈷、金、銀、銅等幾種金屬。作為固體微粒主要有兩類，一類是進(jìn)步鍍層耐磨性的高硬度、高熔點(diǎn)的微粒；一類是進(jìn)步鍍層自光滑特性的固體光滑劑微粒。在鑄鋁外表制備Ni-P-金剛石化學(xué)復(fù)合鍍層[11]，結(jié)果標(biāo)明，硫酸高鈰能促進(jìn)金剛石微粒進(jìn)入鍍層，隨硫酸高鈰含量增加鍍液穩(wěn)定性大幅進(jìn)步后趨于平穩(wěn)，Ni-P-金剛石復(fù)合鍍層耐磨性優(yōu)于Ni-P鍍層，添加2mg/L硫酸高鈰后進(jìn)一步顯著進(jìn)步，與Ni-P鍍層相比，復(fù)合鍍層耐蝕性差，添加硫酸高鈰后有所改善。

五、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜

化學(xué)轉(zhuǎn)化膜是使金屬與特定的腐蝕液相接觸，在一定條件下發(fā)作化學(xué)反響，在金屬外表構(gòu)成一層附著力良好的、難溶的生成物膜層。這些膜層，或者能維護(hù)基體金屬不受水和其它腐蝕介質(zhì)的影響，或者能進(jìn)步有機(jī)涂膜的附著性和耐老化性，或者能賦予外表其它性能。化學(xué)轉(zhuǎn)化膜由于是基體金屬直接參與成膜反響而生成，因此與基體的分離力比電鍍層和化學(xué)鍍層大的多。金屬都能夠在選定的介質(zhì)中經(jīng)過轉(zhuǎn)化處置，得到不同應(yīng)用目的的化學(xué)轉(zhuǎn)化膜，但目前工業(yè)上應(yīng)用較多的是鋼鐵、鋁、鋅、銅、鎂及其合金?；瘜W(xué)轉(zhuǎn)化膜同金屬上別的掩蓋層(例如金屬的電堆積層)不一樣，它的生成有基底金屬的直接參與，與介質(zhì)中陰離子生成本身轉(zhuǎn)化的產(chǎn)物(MmAn)，因而也能夠說化學(xué)轉(zhuǎn)化膜的構(gòu)成實(shí)踐上可看作是受控的金屬腐蝕的過程?；瘜W(xué)轉(zhuǎn)化膜按膜的主要組成物的類型分為：氧化物膜，磷酸鹽膜，鉻酸鹽膜，草酸鹽膜等。

鋁合金在大氣環(huán)境下容易發(fā)作晶間腐蝕而毀壞。目前應(yīng)用的高強(qiáng)度鑄造鋁合金普通含有硅、銅、鎂等元素，這些元素的參加增加了合金的腐蝕敏理性。其次是外表硬度低，容易磨損，表面光澤不能堅(jiān)持持久，所以請(qǐng)求有較高的維護(hù)措施。其中在鋁合金外表上生成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜具有設(shè)備簡(jiǎn)單、本錢低、投資省等優(yōu)點(diǎn)。彭靚等[12]采用鉻酸鹽法在Y112合金上生成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜，實(shí)驗(yàn)結(jié)果標(biāo)明，該轉(zhuǎn)化膜具有高的耐腐蝕性，并具有美觀的金黃色表面面。

以錳酸鹽和鋯鹽為主鹽，在鋁合金外表化學(xué)氧化得到的化學(xué)氧化膜[13]的腐蝕電位比鋁合金試樣的腐蝕電位正0.45V左右，腐蝕電流密度僅0.286μA/cm2；交流阻抗譜圖低頻端的阻抗值比鋁合金試樣的值大一個(gè)數(shù)量級(jí)；鋁合金化學(xué)氧化膜外觀呈金黃色，具有規(guī)則排列的柱狀生長(zhǎng)構(gòu)造。

葛圣松等用無(wú)鉻化學(xué)辦法在鑄鋁合金外表制得黑色轉(zhuǎn)化膜，應(yīng)用點(diǎn)滴實(shí)驗(yàn)評(píng)價(jià)了膜的耐蝕性能。分別采用掃描電鏡及電子探針察看膜的形貌、測(cè)定其組成元素，最后提出了黑色膜的構(gòu)成機(jī)理和耐蝕機(jī)理。

六、結(jié)語(yǔ)

鑄造鋁合金的外表耐腐蝕性處置能夠經(jīng)過電化學(xué)辦法得以改善?，F(xiàn)有的研討多停留在試樣上，應(yīng)用研討較少。在實(shí)踐應(yīng)用中，單獨(dú)用一種工藝技術(shù)就能進(jìn)步鑄造鋁合金的防護(hù)性、裝飾性和功用性問題比擬少見，對(duì)現(xiàn)有的改性技術(shù)綜合思索，對(duì)此展開系統(tǒng)的研討。鑄造鋁合金的外表耐腐蝕性的綜合研討有意義。